Sasaran titanium

Sasaran titanium ialah bahan mentah utama yang digunakan dalam proses pemendapan wap fizikal (PVD). Zarah bertenaga tinggi mengebom permukaannya, memercikkan atom atau ion titanium, membentuk filem sebatian titanium atau titanium yang berprestasi tinggi, berprestasi tinggi pada substrat.

▸Ciri Teras dan Spesifikasi Teknikal:
1. Ketulenan Ultra Tinggi: Tersedia dalam pelbagai tahap ketulenan, daripada 99.99% (4N) hingga 99.9999% (6N), sasaran ini memenuhi keperluan kekotoran yang ketat bagi pelbagai aplikasi dan memastikan kekonduksian, rintangan kakisan dan biokompatibiliti yang sangat baik.
2. Saiz dan Berat Boleh Disesuaikan: Pengeluaran tersuai sepenuhnya disokong. Saiz dan berat maksimum boleh direka bentuk dan dihasilkan untuk memenuhi ruang peralatan pelanggan tertentu, keperluan proses dan kuasa sputtering, memberikan fleksibiliti proses maksimum.
3. Pembungkusan Profesional: Dibungkus dengan selamat dalam peti kayu atau palet, sasaran berketepatan tinggi bernilai tinggi ini dilindungi daripada kerosakan, pencemaran dan ubah bentuk semasa pengangkutan dan penyimpanan, memenuhi piawaian perkapalan industri.

▸Bidang Permohonan Teras:
1. Paparan LCD (Paparan Kristal Cecair): Digunakan untuk mendepositkan elektrod (seperti pintu gerbang, sumber/longkang) atau lapisan penghalang dalam tatasusunan transistor filem nipis (TFT), yang penting untuk memaparkan prestasi dan hasil.
2. Peranti Perubatan dan Implan: Digunakan untuk mendepositkan filem nipis titanium atau titanium nitrida ketulenan tinggi pada permukaan peranti perubatan seperti sendi tiruan, skru tulang, implan pergigian dan stent kardiovaskular, meningkatkan biokeserasian produk, rintangan haus, rintangan kakisan dan osseointegrasi dengan ketara.